Essential Macleod 12.6新版本已经正式发布,更新内容如下:
Core
1. 现在可以随时访问“厚层设计”的偏振选项,在此之前,当使用入射角列表时,偏振选项无法更改。
2. 散射工具(scattering tool)现在可以计算BRDF/BTDF以及角分辨散射。
3. 在散射工具中添加了散射积分计算。总散射积分是角分辨散射在反射半球和透射半球上的积分。为方便起见,反射半球和透射半球的散射积分是分开提供的。
4. 现在,Essential Macleod可以读取日立光谱仪生成的udss文件。Essential Macleod将带有udss扩展名的文件假定包含日立格式的数据,并自动解码。
5. 反演工程(Reverse Engineer)现在支持在不同基板上进行测量。每个测量页面都可以指定用于测量的基板。如果基板为空白,就会调用“设计”(Design)页面的基板。
6. 现在的设计可以导出使用于Synopsys的LightTools软件。使用File>Export>LightTools来导出数据
Runsheet
1. Runsheet现在可以导出一个设计文件,该文件包含在Runsheet中使用的监测芯片的预期厚度。选择要导出的包含芯片的层(或该芯片上的一个层),然后使用File>Export>Chip Design来创建设计。
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